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全球半導體先進製程霸主: 其重點投入重金開發之最高純度二氧化碳 (CO2) 氣體,已成功打入並長期供應給護國神山 台積電 於 5nm/3nm 以下極先進製程之精密清洗與極紫外光 (EUV) 護膜應用。
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第三方研究:My-TW-Coverage 版本日期 2026-03-26歷史研究,非今日現況;個別敘述尚未逐項核實MIT 授權
全球半導體先進製程霸主: 其重點投入重金開發之最高純度二氧化碳 (CO2) 氣體,已成功打入並長期供應給護國神山 台積電 於 5nm/3nm 以下極先進製程之精密清洗與極紫外光 (EUV) 護膜應用。
設備 (微影/蝕刻/沈積): ASML (獨家 EUV 供應商), Applied Materials, Lam Research, Tokyo Electron.
EUV 機台: ASML (艾司摩爾).
3. 先進製程助力: 隨 EUV 曝光機世代更迭,公準提供的精密零件規格持續升級,具備高度技術壁壘。
半導體設備商: ASML — 主要供應 EUV 相關真空腔體與精密組件
公司是全球極少數獲得 ASML 認證的 極紫外光光罩盒 (EUV Pod) 供應商,且在全球先進製程市佔率超過 80%。
智伸科技 (4551) 為精密 CNC 金屬加工廠,產品應用於汽車煞車、燃油噴射、變速箱、轉向及溫控系統。主要客戶為全球汽車 Tier 1 — Continental、Bosch、Cummins、BorgWarner、ZF、Delphi,終端 OEM 涵蓋BMW、Stellantis、Tesla。近年積極拓展半導體設備 (供應 EUV 光刻機零組件,隱含客戶為ASML)、醫療器材 (營收年增 409%) 及AI 伺服器水冷零組件 (2025 Q2 開始出貨) 等非汽車事業。越南及墨西哥設有新廠因應關稅轉移。
半導體設備: EUV 光刻機零組件 (隱含ASML)
半導體: EUV 光刻機零組件 (隱含ASML)
業務結構與利基:(1) 半導體設備光學 — 成功打入 ASML 曝光機鏡頭供應鏈,供應 EUV/DUV 曝光設備所需之高精度光學元件,為高毛利核心成長引擎;(2) 高階投影機 — 供應 Barco、Christie 等全球頂級電影院投影設備廠高階光學鏡頭;(3) 運動光學 — 供應狙擊鏡與望遠鏡用高精度光學鏡片予歐美運動光學品牌;(4) 航太光學 — 與台灣國家太空中心 (TASA) 合作開發人造衛星光學鏡頭。上游光學玻璃毛胚主要採購自 Schott (德國肖特) 與 Ohara (日本小原)。
半導體設備: ASML — EUV/DUV 曝光機光學元件
半導體設備: ASML — EUV/DUV 曝光機高精度光學元件
宏碩系統 (6895) 為高真空微波元件隱形冠軍 (技術源自國防)。供應ASML EUV微波加熱模組及台積電。為旭暉應材子公司。2025年營收年增121%。
ASML — EUV微波加熱
台積電 (核心客戶, EUV製程)
技術 / 材料 / 公司
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