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光阻液

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份報告提及
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第三方研究:My-TW-Coverage 版本日期 2026-03-26歷史研究,非今日現況;個別敘述尚未逐項核實MIT 授權

業務描述提及

勝一化工 (1773,Shiny Chemical) 為台灣電子級溶劑龍頭製造商。核心產品涵蓋PGMEA (丙二醇甲醚醋酸酯)、IPA (異丙醇)、PMA、PM 等高純度溶劑,應用於半導體晶圓清洗、光阻液製造及面板濕製程。電子溶劑佔營收約 60%。主要客戶涵蓋晶圓代工龍頭台積電 (多次獲頒「卓越供應商」,已通過 3nm/2nm 製程認證)、聯電、世界先進、Intel。另供應高純度溶劑作為光阻液原料予東京應化 (TOK)、JSR、住友化學等光阻大廠。面板客戶涵蓋友達、群創。上游基礎醇酯原料採購自台灣中油、長春石化、李長榮化工。2024 年營收約 110 億元 (年增 12%)。

供應鏈描述提及

光阻原料: 東京應化 (TOK)、JSR、住友化學 — 高純度溶劑作為光阻液原料

客戶/供應商描述提及

光阻原料: 東京應化 (TOK)、JSR、住友化學 — 光阻液用高純度溶劑

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華立企業 (3010,Wah Lee Industrial) 是台灣最大的高科技材料通路商,專注代理半導體製程材料、PCB 材料、面板材料、綠能材料與工程塑膠。公司與原廠 JSR、DuPont、住友培科 等建立長期深厚合作關係,為台積電供應鏈重要之光阻液與 CMP 研磨液供應夥伴。近年積極佈局綠能電廠投資及氣體在地化生產 (氖氣),拓展材料製造業務。

供應鏈描述提及

半導體材料: JSR (光阻液)、TOK、DuPont、Avient

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半導體: 台積電 (光阻液主力供應商)、聯電、Micron

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新應材科技股份有限公司 (4749) 成立於 2003 年,為台灣本土關鍵半導體特用化學品供應商。專注於微影製程材料,包括:(1) 光阻 (Photoresist) — I-Line、KrF、ArF 光阻(研發/認證中);(2) 配套化學品 — 清洗劑 (Rinse)、去光阻液 (Stripper)、洗邊劑 (EBR)、底部抗反射層 (BARC)。已成功打入 台積電 先進製程(7nm/5nm/3nm/2nm)供應鏈,為少數能取代日系進口材料的台灣廠商。另有 Micro LED 用量子點材料與 CIS 材料。台積電為最大單一客戶,營收佔比已達約 79%。

供應鏈描述提及

去光阻: 新應材 (去光阻液 Stripper)

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崇越科技(5434)是台灣領先的半導體及光電材料通路商,長期深耕高科技產業。公司主要代理日本Shin-Etsu化學(Shin-Etsu)的半導體材料(如矽晶圓、光阻液、研磨液等),並銷售LED、LCD等相關電子材料及設備。崇越亦積極拓展環保工程業務(廢水處理、無塵室工程)及大健康產業(安永鮮物)。作為台積電等晶圓代工大廠的重要合作夥伴,崇越在先進製程材料供應上佔有重要地位,隨著台灣半導體產業的全球擴張,公司也積極佈局美國、日本及東南亞市場。

客戶/供應商描述提及

Shin-Etsu化學 (Shin-Etsu): 長期核心合作夥伴,提供矽晶圓、光阻液等產品。

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證交所|上市公司基本資料

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來源出表日期
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櫃買中心|上櫃公司基本資料

892 筆

來源出表日期
2026-10-02
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