新應材

新應材科技股份有限公司 (4749) 成立於 2003 年，為台灣本土關鍵半導體特用化學品供應商。專注於微影製程材料，包括：(1) 光阻 (Photoresist) — I-Line、KrF、ArF 光阻（研發/認證中）；(2) 配套化學品 — 清洗劑 (Rinse)、去光阻液 (Stripper)、洗邊劑 (EBR)、底部抗反射層 (BARC)。已成功打入 台積電 先進製程（7nm/5nm/3nm/2nm）供應鏈，為少數能取代日系進口材料的台灣廠商。另有 Micro LED 用量子點材料與 CIS 材料。台積電為最大單一客戶，營收佔比已達約 79%。

光阻配套: 新應材 (光阻清洗劑 Rinse、BARC、EBR)