1,679 份第三方研究已建立索引，研究涵蓋範圍與官方公司名錄不同
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第三方研究：My-TW-Coverage 版本日期 2026-03-26歷史研究，非今日現況；個別敘述尚未逐項核實MIT 授權
業務描述提及新應材科技股份有限公司 (4749) 成立於 2003 年，為台灣本土關鍵半導體特用化學品供應商。專注於微影製程材料，包括：(1) 光阻 (Photoresist) — I-Line、KrF、ArF 光阻（研發/認證中）；(2) 配套化學品 — 清洗劑 (Rinse)、去光阻液 (Stripper)、洗邊劑 (EBR)、底部抗反射層 (BARC)。已成功打入 台積電 先進製程（7nm/5nm/3nm/2nm）供應鏈，為少數能取代日系進口材料的台灣廠商。另有 Micro LED 用量子點材料與 CIS 材料。台積電為最大單一客戶，營收佔比已達約 79%。
供應鏈描述提及去光阻: 新應材 (去光阻液 Stripper)
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證交所｜上市公司基本資料 1,095 筆
- 來源出表日期
- 2026-10-02
- 本站取得時間
- 2026/10/03 09:44
- 跨來源核對
- 尚未完成
櫃買中心｜上櫃公司基本資料 892 筆 · 官方來源暫時無法取得或格式異常 · 使用較舊快照
- 來源出表日期
- 2026-10-02
- 本站取得時間
- 2026/10/03 08:20
- 跨來源核對
- 尚未完成
時間以台北時區顯示；來源出表日期為資料集標示日期，不代表每家公司在當日有異動